TMAH，全稱為四甲基氨基氫氧化物（Tetramethylammonium hydroxide），是一種常見的有機胺鹽堿性化合物，廣泛應用于半導體、光學、化學等領域中。

TMAH是一種具有強堿性的清洗劑，它可以有效地去除半導體晶圓表面的雜質和殘留物，保證晶圓表面的干凈和光滑。此外，TMAH在氧化清洗過程中也能起到很好的作用。

TMAH也常用作顯影劑，通常應用于半導體加工工藝中。在光刻過程中，光刻膠的部分區域被曝光，顯影劑能夠將未曝光的光刻膠部分移除，形成所需的圖案。TMAH具有較高的顯影速率，能夠提高顯影效率和加工效率

TMAH在電化學領域中也有應用。由于它具有較高的離子導電率和良好的穩定性，可以用作電解液。在某些電化學應用中，TMAH可以與金屬離子形成穩定的絡合物，提高電極反應的效率。

1. 作為分析試劑，TMAH在分析化學領域中也有應用。由于它具有良好的溶解性和穩定性，可以作為分析試劑使用。在某些分析應用中，TMAH可以用于提取和分離目標化合物，提高分析的精度和靈敏度。

   因此檢測THAM四甲基氫氧化銨濃度就成為必要手段。KRK笠原理化LQ-5Z-Multi，可以現場檢測四甲基氫氧化銨。

2. 

長處

1. 一個單位測量8個項目（硫酸、硝酸、鹽酸、TMAH、燒堿、碳酸堿、氨水、水溫）

2. 單組分液體濃度可在%和g/L單位之間切換

3. 耐酸堿的耐化學腐蝕傳感器

4. 自動溫度補償電極和儀器

5. 任意量程校準功能

6. IP66 級防水結構

   
   

   
   

7. 名字	用于單組分測量的多項目化學濃度計
   型	LQ-5Z-多功能
   測量范圍	堿性溶液 TMAH：0.00~5.00%/0.0~50.0g/L        氫氧化鈉：0.00~3.00%/0.0~30.0g/L 碳酸鈉：0.0~10.0%/0~100g/L 氨水：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 酸溶液 硫酸：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 硝酸：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 鹽酸：0.00~2.00%/0.0~20.0g/L 溫度：0.00~40.00°C
   樣品液體溫度	0.0~40.0°攝氏度
   測量方法	電極法（水樣測量）
   校準	零跨度校準功能
   溫度補償	自動溫度補償
   結構	IP66防水結構
   權力	具有 自動斷電功能的堿性電池（LR03×3）
   測量電極	4C型，1m電纜標準
   外形尺寸	儀身：38（H）×75（W）×180（D）mm 電極：φ17×180（L）mm
   重量	儀器：約300g，電極：約50g
   標準配置	儀器、電極、電池、使用說明書、保修卡